產(chǎn)品中心
Product Center
熱門搜索：
美國EDAX能譜儀
EP6美國 Cascade Microtech EP6探針臺
TEM氮化硅薄膜窗口
NTEGRAPrima俄羅斯產(chǎn)全功能掃描探針原子力顯微鏡
Zeta-20三維光學(xué)輪廓儀
主動隔振臺ARISTT
石英/硅/聚合物模板高分辨率納米壓印模板（Mold for nanoimprint lithography）
iNano高精度臺式納米壓痕儀
P170全自動晶圓探針式輪廓儀/臺階儀
PLD/Laser-MBE脈沖激光沉積/分子束外延聯(lián)用系統(tǒng)
納米團簇束流沉積系統(tǒng)
P7晶圓探針式輪廓儀/臺階儀
Lumina光學(xué)表面缺陷分析儀
Solver P47俄羅斯產(chǎn)高性價比掃描探針顯微鏡原子力
Profilm 3D經(jīng)濟三維光學(xué)輪廓儀 可測樣
納米壓印膠
當前位置：首頁
產(chǎn)品中心電子束曝光系統(tǒng)ELS-F125/F100/HS50電子束曝光系統(tǒng)
產(chǎn)品簡介
ELS-F125是Elionix推出的世界上1st臺加速電壓達125KV的電子束曝光系統(tǒng)，其可加工線寬下限為5nm的精細圖形。(以下參數(shù)基于ELS-F125)
product
產(chǎn)品分類| 品牌 | 其他品牌 | 價格區(qū)間 | 面議 |
|---|---|---|---|
| 產(chǎn)地類別 | 進口 | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 化工,電子/電池,電氣,綜合 |
電子束曝光系統(tǒng)ELS-F125具有以下優(yōu)點：
l 超高書寫精度
- 5 nm 線寬精度 @125 kV
- 1.7 nm 電子束直徑&鄰近效應(yīng)小化 @125 kV
l 大通量、均勻性好
- 寬視野書寫:500um視場下10 nm線寬
- 高束流下電子束直徑依然很小，大通量而不影響分辨率，2 nm電子束直徑@1 nA
l 界面用戶友好
基于Windows系統(tǒng)的CAD和SEM界面:
-簡單易用的圖案設(shè)計功能
-易于控制的電子束條件
二、電子束曝光系統(tǒng)主要功能：
l 主要應(yīng)用
納米器件的微結(jié)構(gòu)
集成光學(xué)器件，如光柵，光子晶體等
NEMS結(jié)構(gòu)，復(fù)雜精細結(jié)構(gòu)
光刻掩模板，壓印模板
l 技術(shù)能力
三、應(yīng)用：
上一個：
返回列表
